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IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING 临时占位封面 工程技术
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Review Cycle Records

IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING

IEEE SCIE 非OA
2026新锐 3区2025中科院 4区2025 JCR Q3
102平均天数
96中位天数
56最短天数
154最长天数
1362025发文量

Paper Review Records

全部论文审稿周期

3 篇有效样本 · 按发表日期由新到旧排列
审稿天数=录用日期-收稿日期;保留 PDF/DOI/网页源链接

56 天

Suppressing Hexagonal Defects in Ex Situ Remote Plasma Dry Etch Processing

作者Kangjian Cheng; Jingyan Huang; Wen Siang Lew

作者单位1. School of Physical and Mathematical Sciences, Nanyang Technological University, Jurong West, Singapore; 2. GlobalFoundries Singapore Pte. Ltd., Jurong West, Singapore

PDF源文件 DOI 网页
154 天

Laser Direct Writing Lithography-Enabled Fan-Out Packaging Method for Self-Adapting LED Position Deviations

作者Zongtao Li; Zhouan Wang; Jianheng Guo; Hesheng Liu; Jiasheng Li

作者单位1. South China University of Technology

PDF源文件 DOI 网页
96 天

Bipolar Transistor Test Structures for Extracting Minority Carrier Lifetime in IGBTs

作者Kiyoshi Takeuchi; Munetoshi Fukui; Takuya Saraya; Kazuo Itou; Toshihiko Takakura; Shinichi Suzuki; Yohichiroh Numasawa; Naoyuki Shigyo; Kuniyuki Kakushima; Takuya Hoshii; Kazuyoshi Furukawa; Masahiro Watanabe; Hitoshi Wakabayashi; Kazuo Tsutsui; Hiroshi Iwai; Atsushi Ogura; Wataru Saito; Shin-Ichi Nishizawa; Masanori Tsukuda; Ichiro Omura; Hiromichi Ohashi; Toshiro Hiramoto

作者单位1. Institute of Industrial Science, The University of Tokyo; 2. Meiji University; 3. Tokyo Institute of Technology; 4. Research Institute for Applied Mechanics, Kyushu University; 5. Kyushu Institute of Technology

PDF源文件 DOI 网页

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平均审稿96.4 天

中位数77 天

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