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工程技术
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123
天
83
天
7
天
Comprehensive Analysis of Oxidant Effects During ALD Process of Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 Ferroelectric Thin Films
作者Xiaopeng Li; Yilin Hou; Xiaoyu Dou; Yaoyu He; Yuwei Qu; Pengpeng Sang; Xuepeng Zhan; Xiaolei Wang; Jixuan Wu; Jiezhi Chen
作者单位1. Shandong University; 2. Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences
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中位数77 天